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磁控溅射非晶态VAlTiCrSi高熵合金薄膜及其腐蚀性能研究

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本文利用磁控溅射结合拼接靶材的技术，成功制备了具有优异耐腐蚀性能的非晶态VAlTiCrSi高熵合金薄膜。通过XRD、SEM、TEM及电化学测试等手段详细研究了VAlTiCrSi高熵合金薄膜的组织结构和人工海水环境中的耐腐蚀性能。研究结果表明：在人工海水介质中，VAlTiCrSi高熵合金薄膜具有较低的自腐蚀电流密度和较高的腐蚀电位，其中其自腐蚀电流密度达到4.68×10-9A/cm2，比304不锈钢低了一个数量级；同时其极化曲线展示出了一个较宽的钝化区域（1100mV），耐腐蚀性能显著优于304不锈钢。VAlTiCrSi高熵合金薄膜为非晶态，组织均匀无缺陷，并且其组成元素(V、Al、Ti、Cr、)易钝化，容易形成致密的钝化膜，从而使其具有如此优异的耐腐蚀性能。