过渡金属氮化物具有优良的导电性、较高的熔点和良好的化学稳定性等独特优点，且兼具双电层电容器电极材料优异循环稳定性和法拉第赝电容器电极材料高能量密度等特性，已经成为新一代可供选择的高性能超级电容器电极材料。CrN和TiN具有较高的理论容量值，在超级电容器领域展现出很大的研究价值和广阔的应用前景。磁控溅射作为绿色镀膜技术具有成膜温度低、沉积速率快、重复性好、膜/基结合力好、避免导电剂使用、不涉及有毒气体等优势。本工作主要围绕反应磁控溅射制备的CrN和TiN基纳米结构薄膜及其在超级电容器领域的应用展开研究。首先系统研究沉积压力和氮气流量等工艺参数对薄膜电极形貌、结构、粗糙度、孔隙率及其电化学性能的影响，探讨工艺参数、结构和性能之间的构效关系；然后针对常规反应磁控溅射技术制备CrN和TiN薄膜所存在的致密度高、形貌简单、比表面积小、比电容偏低等一系列问题，利用反应磁控溅射技术和化学修饰（选择性化学刻蚀、激光加工）有效结合的新策略，实现CrN和TiN薄膜的纳米化，成功构筑多孔CrN和三维纳米阵列纳米结构TiN薄膜，并着重分析多孔和三维纳米阵列结构对超级电容器性能的影响；最后提出和设计多靶反应磁控共溅射的普适性新策略，实现三元过渡金属氮化物CrVN和TiNbN固溶体纳米结构薄膜的可控制备，探索活性金属掺杂及金属之间协同效应对超级电容器性能的影响。

过渡金属氮化物薄膜；磁控溅射；多孔纳米结构；三维纳米阵列结构；超级电容器