近年来，原子层沉积（ALD）技术在纳米电子器件及能源催化等领域得到了越来越多的应用，但是ALD技术目前能制备的材料种类还有一定的局限性，尤其在铁系元素硫属化物方面（即铁/钴/镍的硫/硒化物等），相关的ALD制备方法研究还比较初步。在本报告中，作者将主要汇报课题组近年来在ALD制备铁系元素硫属化物薄膜方面的研究进展，具体包括：铁钴镍的硫化物和硒化物的新型ALD制备方法工艺，基于原位XPS等技术的ALD薄膜生长机理研究，以及所制ALD薄膜在电催化等方面的应用。

参考文献
Xinwei Wang*, "Atomic Layer Deposition of Iron, Cobalt, and Nickel Chalcogenides: Progress and Outlook" (Invited Perspective), Chemistry of Materials 33 (16), 6251-6268 (2021)
 

原子层沉积